300mm N2 EFEM
N2パージ
300mm
EFEM内のOx/H2Oをコントロールし、最先端半導体製造プロセスのニーズに応える。
- 大気からN2へ高効率な置換を実現
高効率な低酸素濃度の制御をミニエンバイロメント内で実現
100ppm以下の酸素濃度を100LPM以下のN2ガス消費量で維持するN2ガス循環システムを採用 - 微差圧の自動制御
10Paゲージ+/- 3.5 - 従来型EFEMと同スペースに設置可能
(１)従来のEFEMと変わらないフットプリントで既存EFEMとの置き換えが可能
(２)据え置き型アームロボットにより、最大4LPにアクセス
(３)従来のEFEM同様、側面にメンテナンス窓を用意（追加オプションにより、サイドポジションの使用が可能） - EFEM内部環境・分析モニタ
EFEM内は、デジタルアナライザを使用したモニタリングが可能 - 安全操作
N2ガスを安全にAirに交換
※S2、S8、CE準拠
