産業インフラ

卓上型瞬間溶解装置

特長

  • 活性金属や高融点金属を3分以内で真空溶解
  • 水冷銅ルツボ採用により高純度化・合金化が可能
  • 付帯設備工事も簡易化され低価格
  • 少量、多品種の溶解、SEMや機械試験にも対応し新素材開発に最適

インゴット

仕様

形式 QM-1 QM-2
溶解雰囲気 清浄雰囲気10-3Pa ~ 1000hPa
不活性ガス雰囲気可能
真空排気システム 真空ポンプ:ドライポンプ、ターボ分子ポンプ
水冷ルツボ形状 Φ30mm
鋳塊形状 半球状SR30 円柱体Φ30mm × 200mm
凝固収縮代は含まず
原料添加システム 真空電磁フィーダによる連続切出し
引抜モードと関連有、調整VR 付
鋳塊引抜システム 引抜速度:0.1 ~ 10 mm/min
溶解金属に合わせた速度調節が可能
連続・間欠引抜モード選択
溶解電源 50kW 100kHz
制御システム 高周波電力制御方式
自動制御

特殊仕様につきましては、貴社打合せによりに決定しオリジナル設計が可能です。

設置環境

電源 主電源 AC200/220V 50/60Hz 3相 60kVA
補助電源 AC200/220V 50/60Hz 3相 5kVA
冷却水 水圧 0.3 ~ 0.4MPa 水温30℃以下 80L/min
圧縮空気 圧力 0.4 ~ 0.7MPa で準備ください
不活性ガス 圧力と流量を制御したアルゴンガス系(圧力0.1MPa)

本装置運転用として、上記のユーティリティをご用意下さい。
本装置設置に当たり電波法による設置届が必要となります。

外形図

単位:mm

Information

お電話でのお問い合わせ

営業日 平日9:00〜17:30 土日祝除く

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東京本社 産業インフラシステム営業部
TEL 03-5473-1832
FAX 03-5473-1847

大阪支社 産業インフラシステム営業部
TEL 06-6365-1926